
晶圆制造
WAFER FABRICATION

用于CMP设备的冷却,晶圆制造过程中的CMP研磨盘体,清洗模组腔体等设备大功率器件的降温。满足控温精度高,及时性强的制造需求。
推荐型号:FCTC50101 FCTC75101 FCCW50211
晶圆制造
WAFER FABRICATION
用于CMP设备的冷却,晶圆制造过程中的CMP研磨盘体,清洗模组腔体等设备大功率器件的降温。满足控温精度高,及时性强的制造需求。
推荐型号:FCTC50101 FCTC75101 FCCW50211
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