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在这里你可以实时了解Chiller冷水机最新动态、市场趋势、技术创新、政策变化
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在半导体制造、精密电子、实验室研究等高科技领域，为达到理想的工艺效果，常常需要用到氢氟酸、硫酸和硝酸等强酸强碱溶液。这时需要一款专业的温控设备将这些特殊液体的温度维持在最佳区间。为此，FerroTec先导热电推出了特殊液体冷水机系列：该系列设备专为高腐蚀、高纯度要求的液体控温场景设计，能在高腐蚀性环境下实现稳定运行和高精度控温。... -
在半导体制造中，刻蚀（Etch）工艺是将光刻胶图形精确转移到硅片上的关键制程，其质量直接决定产品的性能和良率。温度变化会显著影响刻蚀速率、选择性和工艺稳定性。 -
近日，杭州先导热电在海外市场取得了一项重要突破——我们自主研发的两款水冷冷水机FCCA33121-4401和FCCA56121-4401已成功打入日本理化学实验室并实现“零瑕疵”交付。 -
欢迎来到Chiller科普小课堂！在之前的课堂中，我们介绍分享了冷水机的“四大件”——压缩机、冷凝器、节流装置和蒸发器。除此之外，在冷水机制冷系统中，还有一些同样重要的“幕后英雄”——辅助元器件，它们和“四大件”共同保障了冷水机的稳定运行。
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欢迎来到Chiller科普小课堂！根据制冷原理，冷水机通常被分为压缩机式冷水机、直接换热式冷水机、TEC式冷水机等多种类型。本期小将重点介绍压缩机式冷水机的核心部件及其工作原理。
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凝“芯”聚“链”，勇立“潮”头。5月8日上午，由中国半导体行业协会指导，浙江省半导体行业协会主办的2025中国浙江（海宁）半导体装备及材料博览会在海宁会展中心开幕。FerroTec热电事业部应邀参展，并重点展示了FerroTec在半导体温控领域的科研成果——TEC高精度冷水机产品与技术。 -
在半导体制造流程中，涂胶显影工艺对芯片性能具有决定性影响。光刻胶的涂布厚度和均匀性直接影响最终芯片的性能，而影响光刻胶均匀性的关键因素之一正是晶圆表面的温度控制精度。因此在实际工艺中，普遍采用晶圆加热盘对晶圆进行高精温度控制，以确保工艺稳定性与良品率。
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自1992年成立以来，杭州大和热磁电子有限公司始终以热电制冷技术为核心，深耕半导体与精密温控领域。作为日本FerroTec集团在华的全资子公司，大和热磁依托全球化技术资源，逐步成长为国内冷水机行业的领军企业。
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FCCWS051-7402系列冷水机是由FerroTec热电事业部自主研发的压缩机式低温型冷水机。这款产品能够满足实验室研究、医疗行业、工业应用、电子元器件、汽车、光通讯、航天航空、半导体行业蚀刻装置，CMP、模具温控等多领域应用；为不同工艺步骤提供稳定、精确的温度控制，从而确保半导体器件的质量和性能。
