晶圆制造

WAFER FABRICATION

用于CMP设备的冷却,晶圆制造过程中的CMP研磨盘体,清洗模组腔体等设备大功率器件的降温。满足控温精度高,及时性强的制造需求。

推荐型号:FCTC50101  FCTC75101  FCCW50211

FCTC50101

制冷量:0.5kW

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FCTC75101

制冷量:0.75kW

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FCCW50211

制冷量:5kW

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